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作為全球著名的化學(xué)品氧化鋁公司,NabaltecAG(納博特)以豐富的應(yīng)用解決方案(超70種不同品類)和產(chǎn)品高一致性聞名業(yè)界,2019年粉體圈曾組織德國(guó)考察學(xué)習(xí)團(tuán)到訪位于德國(guó)施萬(wàn)多夫的納博特粉體工廠參觀學(xué)習(xí)。今年5月...
近日,日本森村集團(tuán)(MorimuraGroup)旗下則武公司(Noritake)與韓國(guó)LG化學(xué)宣布成功開(kāi)發(fā)了適用于汽車功率半導(dǎo)體用的常溫銀漿粘合劑,這種粘合劑用于粘結(jié)(SiC)芯片與基板可以保持高溫穩(wěn)定性,并且擁有卓越的散熱能力...
以二氧化鈰為核心的稀土拋光磨料因其硬度適中、反應(yīng)活性高、選擇性高而表現(xiàn)出具有更高的切削速度、拋光精度和表面光潔度,在半導(dǎo)體、光學(xué)元件、液晶顯示屏等高端制造領(lǐng)域不可替代——晶圓CMP是最典型的應(yīng)用。近些年來(lái)...
近日,日本JX金屬株式會(huì)社宣布,為了應(yīng)對(duì)面向下一代半導(dǎo)體CVD(化學(xué)氣相沉積)、ALD(原子層沉積)工藝對(duì)應(yīng)材料需求極速攀升,將繼續(xù)加強(qiáng)推進(jìn)重要的鉬化合物產(chǎn)能擴(kuò)大以保障供應(yīng)。JX金屬鉬化合物特寫(xiě)AI產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展,...
先進(jìn)半導(dǎo)體制程中,多層布線結(jié)構(gòu)要求每層表面絕對(duì)平整(劃痕、殘留顆粒會(huì)導(dǎo)致電路短路或斷路)。CMP通過(guò)化學(xué)腐蝕與機(jī)械研磨的動(dòng)態(tài)協(xié)同機(jī)制,實(shí)現(xiàn)晶圓表面納米級(jí)甚至原子級(jí)平整(粗糙度Ra<0.1nm,全局平坦度GBIR誤...
化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)作為先進(jìn)的表面處理技術(shù),在現(xiàn)代精密制造領(lǐng)域占據(jù)著舉足輕重的地位,二氧化鈰拋光材料在CMP中同時(shí)參與化學(xué)和機(jī)械作業(yè),更是其中關(guān)鍵。二氧化鈰拋光液是個(gè)統(tǒng)稱,不同應(yīng)用領(lǐng)域有專用類型——以半導(dǎo)體...
6月24日,博拉(AdityaBirla)集團(tuán)旗下HindalcoIndustriesLimited(印度鋁業(yè))宣布以1.25億美元收購(gòu)美國(guó)特種氧化鋁制造商AluChemCompanies,Inc。這次戰(zhàn)略投資也意味著印度公司首次進(jìn)入低鈉板狀剛玉領(lǐng)域,強(qiáng)化了其特...
第三代半導(dǎo)體材料碳化硅(SiC)的超高硬度和化學(xué)穩(wěn)定性使其成為最難加工的材料之一,其表面拋光工序也嚴(yán)重制約了產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程。磁流變彈性體拋光墊技術(shù)是一種通過(guò)磁場(chǎng)動(dòng)態(tài)調(diào)控拋光墊力學(xué)性能、并利用固相芬頓反應(yīng)氧化S...
鈰基稀土拋光材料是一類以鈰(Ce)為主要成分的高性能拋光材料,區(qū)別于氧化鋁、金剛石等依賴自身高硬度磨料的“暴力”,它利用獨(dú)特的Ce3?/Ce??氧化還原循環(huán)與氧空位活性,進(jìn)行“化學(xué)-機(jī)械”協(xié)同作業(yè),從而在分子層面實(shí)現(xiàn)...
光刻和薄膜沉積是芯片制造的后續(xù)工藝,而在這之前,要求在多層互連結(jié)構(gòu)(如銅布線、鎢栓塞、介質(zhì)層)中實(shí)現(xiàn)納米級(jí)甚至原子級(jí)的全局平坦化,因此CMP工藝必須精確控制材料去除速率和選擇比,這決定了芯片制造的良率與...
萬(wàn)里行 | 金蒙匯通:以集團(tuán)全產(chǎn)業(yè)鏈優(yōu)勢(shì)筑基,持續(xù)攻堅(jiān)百納米級(jí)拋光技術(shù)
萬(wàn)里行 | 北京石墨烯研究院宋雨晴研究員:蒙烯材料如何賦能傳統(tǒng)行業(yè)升級(jí)
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