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氮化鎵(GaN)薄膜制備新突破,可擺脫傳統單晶襯底依賴

發布時間 | 2021-08-18 09:21 分類 | 技術前沿 點擊量 | 2015
石墨 石墨烯
導讀:氮化鎵(GaN)材料作為寬禁帶第三代半導體,是國家“十四五”規劃和2035年遠景目標綱要中確定的重點發展方向。

氮化鎵(GaN)材料作為寬禁帶第三代半導體,是國家“十四五”規劃和2035年遠景目標綱要中確定的重點發展方向。

 

目前,氮化物薄膜一般通過金屬有機化學氣相沉積(MOCVD)方法在藍寶石襯底上外延制備。然而,一方面,藍寶石與氮化物之間存在較大的晶格失配與熱失配,外延薄膜質量較差,嚴重影響器件的性能及可靠性,成為目前寬禁帶半導體制備的瓶頸。另一方面,晶體襯底本身尺寸有限、價格昂貴、不具備柔性等,限制了相關器件的生產成本及應用場景。

因此,如何擺脫對傳統單晶襯底的依賴是氮化物材料制備的一大難題。

近期,中國科學院半導體研究所照明研發中心與北京大學、北京石墨烯研究院、北卡大學的科研團隊合作,實現了石墨烯玻璃晶圓氮化物“異構外延”突破。研究人員提出一種納米柱輔助的范德華外延方法,利用金屬有機化學氣相沉積(MOCVD),首次在玻璃襯底上成功外延出連續平整的準單晶氮化鎵(GaN)薄膜,并制備出藍光發光二極管(LED)。

研究人員在非晶玻璃襯底上插入石墨烯層,為后續氮化物的生長提供外延取向關系。在生長初期通過石墨烯層有效引導氮化物的晶格排列,避免了非晶襯底上氮化物生長通常呈現的、雜亂無序的多晶結構。同時,納米柱緩沖層的引入,解決了石墨烯表面氮化物晶粒堆積的問題,通過三維-二維的生長模式切換,先縱向生長垂直的納米柱再誘導其橫向合并,成功實現了連續而平整的氮化鎵薄膜。

 

石墨烯玻璃晶圓上氮化物薄膜的生長

A-F.生長過程示意圖;G.納米柱SEM圖;H.GaN薄膜SEM圖;I.GaN薄膜XRD表征

研究人員在這種準單晶的氮化鎵薄膜上進一步生長了藍光LED,其內量子效率達到48.67%。借助石墨烯/氮化物界面處弱的范德華相互作用,研究人員將生長的外延結構大面積、機械剝離至2inch聚合物襯底,完成了柔性LED樣品的制備。

該研究實現了“異構外延”概念,證實了異構襯底實現半導體材料外延的可行性,為擴大半導體材料外延襯底選擇范圍及后摩爾時代半導體異構集成、功能融合開辟了道路。

相關研究成果以《石墨烯玻璃晶圓準單晶氮化物薄膜的范德華外延》為題,于7月31日在線發表于《科學進展》。

 

資料來源:《中科院之聲》電子雜志第309期



粉體圈整理

作者:粉體圈

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