徐州盛唐光電科技有限公司是國內知名光學鍍膜材料研發商，公司董事長李洪亮先生直言，目前純度高、羥基含量低、粒徑分布均勻的二氧化硅粉體生產廠家國內為數不多，進口產品仍占據主導地位，而盛唐光電參加2020全國二氧化硅材料創新與應用技術交流會的目的之一，就是尋找靠譜的國內供應商。

二氧化硅具有從紫外到到紅外的寬譜段高透性，具有良好的物理和化學穩定性，在20世紀初，通過物理氣相沉積法制作成二氧化硅薄膜，已被廣泛應用于光學和光電子領域的基本材料。這些高純度二氧化硅材料常常被用于數碼相機鏡頭、晶振片和壓電驅動等。但高純度的二氧化硅在自然界存量極少，一般的提純方法主要產品表現為熔融石英和利用水熱溫差法合成“人造水晶”。

盛唐光電生產的二氧化硅顆粒光學常數曲線圖

李董解釋，光學薄膜特性的優劣取決于原材料的純度、生產工藝以及生產環境，要提高二氧化硅薄膜的品質就要對熔融前的二氧化硅粉體加以提純處理，降低羥基含量，以達到鍍膜時速率平穩、減少放氣量，減少噴濺點。并且為了提高光學薄膜的特性，減少重復鍍膜，研制復合材料已成為鍍膜材料生產廠家的研究課題。比如在高精度多層光學薄膜中，經常會把二氧化硅低折射率材料和高折射率的材料組合使用。

盛唐光電研制的SiO₂:Al₂O₃、TiO₂:ZrO₂等復合材料在材料穩定性、鍍膜速率、膜結合度上都有優越的品質。制作這些復合物都離不開二氧化硅粉體，對粉體的純度、羥基含量、粒徑分布都有嚴格要求。

盛唐光電生產的SiO₂:Al₂O₃復合材料

盛唐光電最常用的二氧化硅粉體粒徑分布圖

能夠滿足光學鍍膜需求的二氧化硅生產商們，如果還有什么不清楚的疑問，一定不能錯過與盛唐光電科技一起交流學習的機會。

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