湖北硅元新材料科技有限公司二期項目擬于今年試投產，屆時制備CMP研磨料的電子級四甲氧基硅烷產量將達到3000噸/年。

二期項目規劃產品

醫用有機硅項目產品

近幾年，美國對我國半導體領域的制裁手段日益頻繁，許多國家跟隨美國步伐，和美國建立芯片出口管制聯盟。在美西方的封鎖和制裁下，我國高端芯片領域正處于“卡脖子“狀態，自主研發成為當下的出路。湖北硅元新材料科技有限公司作為深耕于有機硅領域的高新技術企業，為實現國產高端芯片自主、可控做出努力，集中精力研發用于制備CMP磨粒的原料——電子級四甲氧基硅烷。

四甲氧基硅烷，又稱正硅酸甲酯（TMOS）是一種無色透明，具有特殊氣味的有機化合物，其廣泛應用于化工、半導體制造、粘合劑等領域。在半導體制造過程中，可以用于化學氣相沉積和CMP工藝。

制備CMP中的二氧化硅磨粒流程圖

四甲氧基硅烷作為制備CMP二氧化硅磨粒的原料，具有以下優勢：

（1）高純度：在CMP制程中，磨粒的純度越高在拋光液中的分散性越好，有助于維持拋光液的穩定性，減少磨粒團聚現象的出現，同時，可以有效的提升磨粒拋光的速率，減少拋光過程中表面缺陷的出現，從而提升硅片的表面質量。對于特定材料可以實現選擇性去除，減少對于其他材料的不必要磨損。四甲氧基硅烷作為一種高純度的化學品，其制備出來的二氧化硅磨粒相較其他方法制備的純度會更高一些，有助于CMP制程更好的實現。

（2）可控的顆粒形成：通過控制四甲氧基硅烷的水解和縮合反應，可以較為容易的實現對二氧化硅顆粒的形狀、大小和分布的控制，從而滿足不同CMP應用的要求。

（3）良好的表面改性能力：四甲氧基硅烷的硅氧鍵可以與多種有機官能團發生反應，由四甲氧基硅烷制備的二氧化硅磨粒更易于進行表面改性，以提高在漿料中的分散性和穩定性。

發展四甲氧基硅烷作為制備CMP二氧化硅磨粒的原料，對于推動半導體制造業的進步，提高生產效率和產品質量以及促進環保和可持續發展具有重要意義。

湖北硅元新材料科技有限公司將于8月25-26日參加在江蘇無錫舉辦的“2024年全國精密研磨拋光材料及加工技術發展論壇“，如果有意向與湖北硅元新材料科技有限公司在拋光領域進行合作研發的朋友，歡迎到會與湖北硅元新材料科技有限公司面對面交談！

關于湖北硅元新材料科技有限公司

湖北硅元新材料科技有限公司成立于2018年3月，是一家擁有自主研發中心和中試基地的硅材料高新技術企業。自2018年成立以來湖北硅元新材料科技有限公司長期深耕于硅氧烷領域，建立了以教授、博士牽頭，碩士、本科為主要力量的多層級研發團隊，力求用品質最好、最穩定的硅氧烷產品為客戶提供定制化服務。是行業內最優秀的硅氧烷產品制造商之一。

專利及知識產權

湖北硅元新材料科技有限公司參與了包含甲基乙烯基二氯硅烷、四甲基二乙烯基二硅氧烷、甲基乙烯基硅氧烷混合環體、二甲基二乙烯基硅烷在內的行業標準制定，擁有實用新型專利授權16項，發明專利授權2項，有5項產品已取得歐盟REACH注冊認證。

公司其他主營產品

1、二甲基二甲氧基硅烷  (CH3)2Si(CH3O)2

二甲基二甲氧基硅烷是一種無色透明液體，易揮發，溶于水。主要應用領域包括：（1）有機硅樹脂的改性劑；（2）有機硅混煉膠的結構控制劑；（3）擴鏈劑；（4）填料處理劑

2、六甲基二硅氮烷  C6H19NSi2

六甲基二硅氮烷是一種無色透明，有輕微氨味的液體。主要應用領域包括：（1）表面功能化改性劑；（2）有機合成中間體；（3）化學品保護劑；（4）表面處理劑

3、甲基乙烯基二甲氧基硅烷  C5H12O2Si

甲基乙烯基二甲氧基硅烷是一種無色透明，具有輕微酯香味的化合物。它可作為有機硅化合物的中間體以合成多種類型的有機硅化合物，如通過共縮聚反應生成含乙烯基的聚二甲基硅氧烷，這些聚合物具有可調節的功能性甲基乙烯基硅氧烷單元，分子量范圍在1500至20,000之間，并且微觀結構分析顯示共聚主要形成具有隨機分布的單元；它也可以作為表面處理劑用于改善材料的潤濕性能和附著力。

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