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GB/T 42905-2023 碳化硅外延層厚度的測試 紅外反射法

發布時間 | 2023-12-01 15:27 分類 | 行業標準 點擊量 | 1097
碳化硅
導讀:本文件描述了采用紅外反射法測試碳化硅外延層厚度的方法。 本文件適用于n型摻雜濃度大于1×1018 cm-3的碳化硅襯底上同質摻雜濃度小于1×1016 cm-3的同質碳化硅外延層厚度的測試,測試范圍為3 μm...

標準編號:GB/T 42905-2023

標準名稱:碳化硅外延層厚度的測試 紅外反射法

起草單位:安徽長飛先進半導體有限公司、安徽芯樂半導體有限公司、河北普興電子科技股份有限公司、廣東天域半導體股份有限公司、南京國盛電子有限公司、浙江芯科半導體有限公司、布魯克(北京)科技有限公司、中國科學院半導體研究所、有色金屬技術經濟研究院有限責任公司。

歸口單位:全國半導體設備和材料標準化技術委員會(SAC/TC203)與全國半導體設備和材料標準化技術委員會材料分技術委員會(SAC/TC203/SC2)

發布日期:2023-08-06

實施日期:2024-03-01

作者:粉體圈

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