二氧化硅具有優(yōu)異的光透過性、絕緣性、抗磨性、較寬的禁帶寬度以及化學惰性等性能，作為真空鍍膜材料在光學、微電子等領域已經(jīng)得到廣泛應用，如光學系統(tǒng)中的增透減反膜、微電子器件上的介電層等。

蒸鍍原理及鍍膜機結構

目前在光學薄膜應用領域中，物理氣相沉積（PVD）仍是主流技術，也就是蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜技術。從工藝特性上看，要提高二氧化硅薄膜的品質(zhì)，原材料也就是二氧化硅的純度得足夠高，羥基（OH）含量也要控制，同時鍍膜時速率得平穩(wěn)、減少放氣量，減少噴濺點。

雖然地殼中儲藏著大量的二氧化硅，占總質(zhì)量的12%，但自然形成的4N以上的二氧化硅實在太少，因此大部分作為真空鍍膜材料的二氧化硅是通過人工合成的，也就是熔融石英。熔融石英主要包括普通熔融石英和合成石英，不同制備方式獲得的二氧化硅，其光學性能也有所不同，因此應用上也有所區(qū)別。比如說普通熔融石英的在可見光范圍內(nèi)透射率高，羥基OH含量較低，在光學薄膜中多用于增透膜（AR）中，如手機攝像頭、手機面板數(shù)碼相機等光學鏡頭。而合成石英的在2730nm波長處有較強的吸收峰，羥基OH含量高，在光學薄膜中多用于紫外膜系中，如各類截至濾光片。

有道是進步就是永不止步，隨著科學技術的發(fā)展，如今二氧化硅在去除雜質(zhì)、摻雜技術等方面都取得了突破，為各類光學薄膜的制備提供了更廣的范圍。如果您對此感興趣，想了解二氧化硅在光學、微電子等領域中的應用到底發(fā)展到了哪一步的話，在7月09-11日于廣東東莞舉辦的“2021年全國二氧化硅材料技術創(chuàng)新與高端應用交流會”上，來自盛唐光電科技有限公司的李洪亮董事長將帶來題為《二氧化硅在光學薄膜領域中的應用》的報告，從熔融石英制備的方式以及鍍膜工藝技術要求，和大家探討二氧化硅在光學薄膜領域中的應用，這么好的機會，千萬不要錯過了噢！

報告人 李洪亮

徐州盛唐光電科技有限公司董事長

盛唐光電（宿遷）有限公司董事長

江蘇沂蘭新材料研究院副院長

江蘇隴盛光電材料產(chǎn)業(yè)研究院副院長

深圳市光學光電子行業(yè)協(xié)會理事

粉體圈會務組