化學機械拋光（CMP）作為先進的表面處理技術，在現代精密制造領域占據著舉足輕重的地位，二氧化鈰拋光材料在CMP中同時參與化學和機械作業，更是其中關鍵。二氧化鈰拋光液是個統稱，不同應用領域有專用類型——以半導體為例，晶圓拋光只是開始，隨著制程推進后續還有淺溝槽隔離平坦化（STI CMP）、層間介質平坦化（ILD CMP）、金屬內介電層平坦化（IMD CMP）、多晶硅平坦化（Poly CMP）、金屬膜拋光（Metal CMP），隨著AI興起和技術升級，還有針對先進封裝的硅通孔（TSV）拋光等等……

綜上可知，二氧化鈰（CeO?）拋光液是一種定制化產品——適配不同材料、器件拋光的需求不同；工藝環境（如PH值、溫度、摩擦力和剪切力等等）的變化；對缺陷或污染的容忍度不同；原料成本和環保處理難度也不同……由于二氧化鈰拋光液并非一成不變，只有掌握科學方法才能隨機應變地研發出滿足相應需求的產品。

北京工業大學材料學院梅燕教授，自2003年開始立足我國稀土鈰基CMP拋光磨料及拋光液的研究，積累了豐富的實驗經驗，同時與國內相關CMP拋光加工生產企業、應用單位等建立了緊密的合作關系，并已合作開展過生產及應用方面的研究，在CMP拋光磨料制備、CMP拋光液的研制、過程工藝、反應機理研究等方面均取得多項研究積累。定于2025年7月24-25日在東莞喜來登大酒店舉辦2025年全國精密研磨拋光材料及加工技術發展論壇（第三屆），她將作題為“綠色稀土CMP拋光液的研制”的報告，內容涉及二氧化鈰原料及焙燒產物的物化性能對分散性的影響；傳統分散劑的作用機制與局限性；新型分散劑（鈉的碳酸鹽、鋰的碳酸鹽）帶來的性能突破；及分散劑的優化篩選策略等，通過系統解析，闡述如何通過二氧化鈰拋光液開發，解決拋光精度、穩定性、工藝兼容性及缺陷控制等核心矛盾。

報告人簡介

梅燕：北京工業大學材料學院教授/碩士生導師。博士論文題目為：CMP稀土拋光液的制備及超光滑硅片的化學機械拋光研究。作為第一負責人，曾主持國家863重大項目子課題、北京市教委項目、企事業委托項目等多個科研項目，目前為“國家重點研發計劃項目---稀土專項”課題負責人。以第一作者發表發表稀土拋光專業的文章30余篇，以第一發明人獲得國家發明專利10余項。

東莞拋光論壇會務組