納米高純氧化鋁Al?O?因其優(yōu)異的物理和化學特性而成為CMP拋光不可或缺的研磨劑之一。全球拋光液領(lǐng)導(dǎo)者的日本Fujimi推出的晶圓拋光解決方案就包括不同系列的氧化鋁，其中純度超過99%的PWA系列就是一種晶圓拋光工序中用到的最高等級的氧化鋁研磨劑。

PWA系列氧化鋁研磨劑（來源：Fujimi官網(wǎng)）

眾所周知，氧化鋁的高硬度可以帶來較高的去除效率，高純度可以減少雜質(zhì)引入，小粒徑可以帶來更低的表面粗糙度，惰性則能夠適配于拋光液的復(fù)雜化學成分……而不同制備工藝對氧化鋁的微觀形貌有顯著影響，這也是影響CMP拋光質(zhì)量的關(guān)鍵因素之一，比如上圖PWA系列電鏡圖所示，這明顯是一種片狀氧化鋁。這也就意味著納米氧化鋁的制備工藝除了應(yīng)當滿足能夠精確控制純度、粒徑，還應(yīng)該能夠通過控制條件以形成片狀結(jié)構(gòu)。

中鋁是國內(nèi)也是全球最大的精細氧化鋁供應(yīng)商，也是國家鋁基新材料產(chǎn)業(yè)“卡脖子”技術(shù)、產(chǎn)品的科技研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化的推進主體，旗下的中鋁山東正是負責精細氧化鋁業(yè)務(wù)開拓和創(chuàng)新的主力。半導(dǎo)體以及AI是當下經(jīng)濟大環(huán)境下為數(shù)不多的兩大亮點，對CMP拋光的依賴度很高，也排在“國產(chǎn)替代”表單前列。

8月25-26日，粉體圈將在無錫舉辦“2024年全國精密研磨拋光材料及加工技術(shù)發(fā)展論壇（第二屆）”。屆時，中鋁山東有限公司高純氧化鋁事業(yè)部楊叢林經(jīng)理分享的報告題為“CMP拋光用高純氧化鋁的制備及應(yīng)用”，內(nèi)容圍繞CMP拋光用高純納米氧化鋁展開，重點關(guān)注CMP拋光用納米高純氧化鋁理化特征、微觀形貌、生產(chǎn)工藝、技術(shù)路線、應(yīng)用場景等內(nèi)容，系統(tǒng)闡述改良拜耳法及化學沉淀法對納米氧化鋁微觀形貌的影響。此外，報告針對中鋁山東有限公司現(xiàn)有納米鋁基粉體材料及后續(xù)研發(fā)方向進行介紹，希望與產(chǎn)業(yè)鏈內(nèi)同仁一起解決全產(chǎn)業(yè)鏈的“卡脖子”問題。

報告人簡介

楊叢林，男漢，族，中共黨員，碩士研究生，中鋁山東有限公司高純氧化鋁事業(yè)部經(jīng)理，長期從事高純鋁基粉體新材料產(chǎn)業(yè)工藝技術(shù)、新產(chǎn)品開發(fā)及科技成果轉(zhuǎn)化工作，重點解決鋁基粉體材料制備技術(shù)和尖端產(chǎn)品的“卡脖子”問題，提升國家關(guān)鍵戰(zhàn)略基礎(chǔ)原材料的保供能力。近五年主持國家部委項目2項；申報科技成果2項，經(jīng)中國有色金屬工業(yè)協(xié)會鑒定為國際先進水平；授權(quán)國家發(fā)明專利5件，申請國家發(fā)明專利3件；發(fā)表核心期刊論文3篇；制定企業(yè)標準3項；在粉體圈、中國粉體網(wǎng) 、催化新材料論壇等平臺共進行獨立報告7次。

無錫研磨拋光論壇會務(wù)組