日前，湖南德智新材料有限公司（德智新材）完成了由國風投（北京）智造轉型升級基金聯(lián)合博華資本（無錫基金）、元禾重元、恒信華業(yè)聯(lián)合領投，中信證券投資、中車資本、山證投資、交銀國際、國舜投資等進行的C輪數(shù)億元融資，并將投入德智新材株洲、無錫兩地產(chǎn)能擴建與研發(fā)。

湖南德智新材料有限公司

據(jù)悉，德智新材成立于2017年，致力于碳化硅納米鏡面涂層及陶瓷基復合材料研發(fā)，生產(chǎn)和銷售，是目前國內(nèi)唯一實現(xiàn)12寸大硅片外延用碳化硅涂層石墨托盤量產(chǎn)出貨、實體碳化硅刻蝕環(huán)導入的企業(yè)。

碳化硅涂層石墨托盤

碳化硅涂層石墨托盤通常是一種在高溫、腐蝕性氣氛或其他苛刻環(huán)境下使用的高性能工業(yè)托盤。這種托盤的結構一般是由石墨基材通過化學氣相沉積（CVD）涂覆一層碳化硅（SiC）涂層而成。碳化硅涂層賦予了托盤較高的高溫穩(wěn)定性，可以耐受1200℃以上高溫；還有化學穩(wěn)定性，使得托盤能夠在腐蝕性氣氛下工作；還能增加硬度和耐磨性；其他還包括抗熱震性以對抗溫度快速變化等等。在半導體芯片制程中，硅片制造、外延生長、刻蝕、離子注入及氧化擴散等工序中大量使用到石墨與SiC部件。SiC涂層可保護石墨基座盤基體材料，提高性能，凈化外延生長環(huán)境，延長石墨部件的使用壽命。

德智新材擁有自主研發(fā)的生產(chǎn)設備，具備石墨純化、精密加工、精密檢測、CVD涂層等完整的生產(chǎn)制造鏈，在SiC涂層石墨工件設計、加工及CVD工藝等方面具有核心專利技術和競爭優(yōu)勢。在CVD工藝上，德智新材自主研發(fā)沉積設備，并具備從學術到量產(chǎn)的多年工藝積累，擁有對產(chǎn)品應用場景的深刻理解及靈活定制的材料設計制造能力。目前，德智新材已開發(fā)LED外延設備用組件、三代半外延設備用組件、硅基外延設備用組件、SiC刻蝕環(huán)、SiC晶舟等一系列半導體用SiC部件制品。

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