氧化鋁磨料表面細(xì)膩，質(zhì)地堅硬，耐磨性好，耐腐蝕，適用于多種材料的研磨拋光處理，市面上最常用的就是性能優(yōu)良的α-Al2O3磨料。主要精細(xì)應(yīng)用領(lǐng)域：

1.第一代半導(dǎo)體材料硅片和第二代半導(dǎo)體材料砷化鎵的研磨過程中使用的平板狀氧化鋁。平板狀氧化鋁微粉的晶體形狀為六角平板狀，這種形狀使磨料顆粒在研磨運動中平行于被加工工件表面，產(chǎn)生滑動的研磨效果，而非傳統(tǒng)磨料的滾動研磨，故對研磨對象（如半導(dǎo)體硅片）來說不易劃傷。同時，由于研磨壓力是均勻分布在平板狀磨粒表面，顆粒破碎減少，耐磨性大幅提高。

2.第三代半導(dǎo)體材料碳化硅拋光過程中使用的納米氧化鋁，納米氧化鋁除了具備普通氧化鋁高硬度、高強(qiáng)度、耐腐蝕、抗磨損、耐高溫、高絕緣性、高抗氧化性等許多優(yōu)良的特性以外，憑借強(qiáng)的體積效應(yīng)、量子尺寸效應(yīng)、表面效應(yīng)和宏觀量子隧道效應(yīng)，比普通氧化鋁有著更為優(yōu)異的物理化學(xué)特性。用于碳化硅精磨精拋，可以提高芯片的散熱性能和優(yōu)化集成電路的制作工藝。

3.藍(lán)寶石拋光過程中使用的亞微米氧化鋁，由于藍(lán)寶石的技術(shù)成熟，機(jī)械強(qiáng)度高，器件穩(wěn)定，透光率尚可。因此，在光電子領(lǐng)域，廣泛應(yīng)用于發(fā)光二極管(LED)襯底。藍(lán)寶石表面質(zhì)量對LED器件性能和質(zhì)量有著非常重要的影響，目前要求超光滑、無缺陷，且粗糙度Ra小于0.3nm，因此其最后一道拋光加工的要求很高，成為最重要的制程之一。

在研磨拋光領(lǐng)域，國內(nèi)的氧化鋁研究及產(chǎn)業(yè)化起步較晚，至今專業(yè)從事這個領(lǐng)域的企業(yè)也不太多見，但這個領(lǐng)域的市場規(guī)模卻在逐年增加，勢必造成很多客戶依賴進(jìn)口的情況。國內(nèi)氧化鋁現(xiàn)階段面臨的機(jī)遇是半導(dǎo)體材料國產(chǎn)化勢在必行，尤其是硅和碳化硅產(chǎn)能急劇擴(kuò)大，對氧化鋁的需求越來越多；現(xiàn)階段的挑戰(zhàn)是如何滿足客戶的需求，總結(jié)下來國內(nèi)的氧化鋁在應(yīng)用過程中有3個問題：1、耐磨性差；2、批次穩(wěn)定性差；3、納米級的粒度分布寬，易造成劃傷。為了共同探討這些行業(yè)性的痛點難點問題，張澤芳博士將在4月17～19日粉體圈的無錫氧化鋁論壇上就氧化鋁磨粒應(yīng)用的市場機(jī)遇以及面臨的挑戰(zhàn)進(jìn)行細(xì)致的介紹。

報告人簡介

張澤芳，上海映智研磨材料有限公司、臨汾博利士納米材料有限公司創(chuàng)始人。2008年進(jìn)入中國科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所攻讀博士學(xué)位，從事藍(lán)寶石和玻璃的CMP研究。2011年至2014年任中國科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所助理研究員，負(fù)責(zé)下一代LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃等拋光液的研究開發(fā)。2015年至2018年在復(fù)旦大學(xué)電子科學(xué)與技術(shù)博士后流動站從事科研工作，負(fù)責(zé)優(yōu)化藍(lán)寶石拋光液配方和鋁合金拋光液配方。先后以第一作者發(fā)布SCI收錄論文20余篇，授權(quán)專利10余項。在化學(xué)機(jī)械拋光領(lǐng)域代表期刊《Journalof ElectrochemicalSociety》以第一作者在國內(nèi)外雜志上發(fā)表論文10余篇，被EI收錄1篇。主持的重點項目：國家自然科學(xué)基金青年基金項目，新型LED藍(lán)寶石襯底拋光液設(shè)計及其拋光機(jī)理研究；上海市科技型中小企業(yè)創(chuàng)新基金，新型藍(lán)寶石拋光液的設(shè)計制備及產(chǎn)業(yè)化。參與國家十一五、國家十二五集成電路重大專項。被授予山西省青年拔尖人才、上海青浦區(qū)專業(yè)技術(shù)拔尖人才，曾獲得中國科學(xué)院院長優(yōu)秀獎等榮譽(yù)。

無錫氧化鋁論壇會務(wù)組

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