光學增透：選擇溶膠 - 凝膠法，膜厚控制在 λ/4 (約 100-150nm，λ=550nm)

金屬防腐：選擇電化學沉積法或硅烷復合涂層，厚度 500-2000nm

電子拋光：選擇高純度硝酸鈰銨 CAN (≥99.99%)，通過溶膠 - 凝膠法制備納米 CeO?顆粒，用于 CMP 工藝.

硝酸鈰銨鍍膜是一種多功能、低成本的薄膜制備技術，核心在于通過精確控制水解 - 縮聚過程，獲得性能優異的氧化鈰功能膜。

高純度 CAN 溶液 (≥99.9%) 作為鉻掩模蝕刻液，具有選擇性高、蝕刻速率可控 (50-200nm/min)、不損傷光刻膠等優勢，廣泛應用于面板和芯片制造

光學性能    高透過率 (>98%)、低反射 (<5%)、可調折射率 (1.9-2.2)

化學穩定性：耐酸、耐堿、抗氧化，工作溫度可達 500℃以上

工藝適應性：適用于多種基材 (玻璃、硅、金屬、陶瓷)，可通過調整工藝參數控制膜厚 (10nm-1μm)

環保性：無毒 (鈰為稀土元素，生物相容性好)，部分工藝無有害排放

光學領域

減反射膜：在光學鏡片和太陽能電池上形成均勻 CeO?薄膜，使透光率提升至 98% 以上，減少反射損失。

太陽能電池應用：減少表面反射 (從 30% 降至 5% 以下)，增加光吸收，提高光電轉換效率 10-15%

高折射率光學材料：用于制備望遠鏡、顯微鏡等高精密光學元件，提高成像分辨率和對比度。