光學(xué)領(lǐng)域

減反射膜：在光學(xué)鏡片和太陽能電池上形成均勻 CeO?薄膜，使透光率提升至 98% 以上，減少反射損失。

• 太陽能電池應(yīng)用：減少表面反射 (從 30% 降至 5% 以下)，增加光吸收，提高光電轉(zhuǎn)換效率 10-15%

高折射率光學(xué)材料：用于制備望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡等高精密光學(xué)元件，提高成像分辨率和對比度。

2. 電子與半導(dǎo)體

集成電路拋光材料：

• 用于硅片和藍(lán)寶石襯底的化學(xué)機(jī)械拋光 (CMP)，利用 CeO?的高硬度和化學(xué)活性實(shí)現(xiàn)超平坦化，表面粗糙度 < 1nm

• 在先進(jìn)制程 (7nm 以下) 中作為關(guān)鍵材料，確保全局平坦化

半導(dǎo)體掩膜版蝕刻：

• 高純度 CAN 溶液 (≥99.9%) 作為鉻掩模蝕刻液，具有選擇性高、蝕刻速率可控 (50-200nm/min)、不損傷光刻膠等優(yōu)勢，廣泛應(yīng)用于面板和芯片制造