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美國大學研發出原子級薄的材料

發布時間 | 2015-01-04 10:06 分類 | 技術前沿 點擊量 | 5625
導讀： 據科學日報報道，美國萊斯大學研發的一個原子級薄的材料，這或可能導致研發目前最薄的成像平臺。基于金屬硫族化合物的合成二維材料可能是超薄設備的基礎，萊斯大學的研究人員這樣表示。其中一...

      據科學日報報道，美國萊斯大學研發的一個原子級薄的材料，這或可能導致研發目前最薄的成像平臺?；诮饘倭蜃寤衔锏暮铣啥S材料可能是超薄設備的基礎，萊斯大學的研究人員這樣表示。其中一個這樣的材料二硫化鉬，因其檢測光的特性而被廣泛研究，但是銅銦硒化物（CIS）也表現出同樣非凡的潛力。

（來源：鳳凰網）

作者：粉體圈

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