在半導體先進制程，特別是進入如今廣泛討論的5nm、3nm等節點后，光掩模版作為光刻工藝的“原始底片”，其精度和質量直接決定了芯片制造的成敗。而光掩模版的核心基礎材料——掩模基板襯底，其自身的精密加工質量更是最終掩模圖形精度的基石。

光刻掩膜版的作用

光掩模基板作為制作微細光掩模圖形的感光空白板，通常采用超高純度、低熱膨脹系數的合成石英玻璃或低膨脹玻璃制成，其核心作用在于提供高透射率、低損耗的光路通道，并作為后續吸收層或反射多層膜結構的超精細幾何基準平臺。它必須確保承載的電路圖形在特定波長的光波照射下，能以高度的套刻精度和圖像邊緣銳利度精確地轉移到硅晶圓上。為了達到這一要求，避免微小瑕疵所引發的折射率變化導致影響光刻精度，基板自身的微觀幾何形態必須趨近完美。這意味著其在制造過程中必須挑戰并突破納米級乃至原子級精度的加工極限，實現大面積上無損傷的超光滑表面創成、極致均勻性的控制以及超潔凈度的保障。而這每一項苛刻性能指標的達成，對于硬度高且脆性大的石英玻璃來說無不面臨著嚴峻的技術壁壘，目前我國高制程用光掩?；寮庸ぜ夹g仍處于突破初期，主要存在設備缺位和材料與工藝精度兩方面的問題。

在此背景下，上海光學精密機械研究所的高端光電裝備部，針對集成電路（IC）掩模用石英襯底的需求，研制了一種具有拋光盤原位檢測和修復的精密拋光裝備，可以實現石英基板襯底的高精度、低缺陷加工。同時開發了區域壓力調整和缺陷逐步收斂工藝技術，與裝備相結合，可以穩定地實現6025基板用石英襯底的高平面度制造，滿足高制程IC掩模的生產要求，實現國產IC掩?；逯圃煅b備的重要突破。

值得一提的是，在7月24-25日于東莞舉辦的“2025年全國精密研磨拋光材料及加工技術發展論壇(第三屆)”上，上海光學精密機械研究所的方媛媛博士將在現場分享報告《高制程掩?；逡r底精密加工技術與裝備》，屆時她將詳細介紹在高制程掩模基板襯底精密加工上取得的成果，如您對該報告感興趣，歡迎點擊文報名參會哦！

報告人介紹

方媛媛，上海光學精密機械研究所高端光電裝備部博士/高級工程師。主要從事精密光學制造裝備與技術研發和管理工作，在光學元件確定性加工技術、半導體光學元件高精度加工技術、特種材料加工工藝技術等方面體現出較強的技術特色。作為負責人/骨干參與完成多個省部級、國家PT及XX項目等，發表相關學術論文10余篇，申請/授權專利10多項。

東莞精密拋光論壇會務組