標(biāo)準(zhǔn)編號：GB/T 41751-2022
標(biāo)準(zhǔn)名稱：氮化鎵單晶襯底片晶面曲率半徑測試方法
起草單位：中國科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所、蘇州納維科技有限公司、中國電子科技集團(tuán)公司第四十六研究所、哈爾濱奧瑞德光電技術(shù)有限公司、廈門柯譽(yù)爾科技有限公司、山西華晶恒基新材料有限公司、福建兆元光電有限公司。
歸口單位：全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(SAC/TC203)與全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會材料分技術(shù)委員會(SAC/TC203/SC2)
發(fā)布日期：2022-10-12
實(shí)施日期：2023-02-01
作者：粉體圈
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