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半導(dǎo)體掩膜版蝕刻 硝酸鈰銨高純度 CAN 溶液

集成電路拋光材料：

  • 用于硅片和藍(lán)寶石襯底的化學(xué)機(jī)械拋光 (CMP)，利用 CeO?的高硬度和化學(xué)活性實(shí)現(xiàn)超平坦化，表面粗糙度 < 1nm

  • 在先進(jìn)制程 (7nm 以下) 中作為關(guān)鍵材料，確保全局平坦化

半導(dǎo)體掩膜版蝕刻：

  • 高純度硝酸鈰銨 CAN 溶液 (≥99.9%) 作為鉻掩模蝕刻液，具有選擇性高、蝕刻速率可控 (50-200nm/min)、不損傷光刻膠等優(yōu)勢(shì)，廣泛應(yīng)用于面板和芯片制造


二水硝酸鈰銨CAS:16774-21-3 

光學(xué)性能高透過(guò)率 (>98%)、低反射 (<5%)、可調(diào)折射率 (1.9-2.2)
化學(xué)穩(wěn)定性耐酸、耐堿、抗氧化，工作溫度可達(dá) 500℃以上
工藝適應(yīng)性適用于多種基材 (玻璃、硅、金屬、陶瓷)，可通過(guò)調(diào)整工藝參數(shù)控制膜厚 (10nm-1μm)
環(huán)保性無(wú)毒 (鈰為稀土元素，生物相容性好)，部分工藝無(wú)有害排放

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單位名稱(chēng)： 山東德盛新材料有限公司
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備注： 硝酸鈰銨溶液，二水硝酸鈰銨，硝酸鈰銨化學(xué)穩(wěn)定性，硝酸鈰銨含量檢測(cè)