高純度氫氧化鑭在光學薄膜中的應用
氫氧化鑭化學式為La(OH)3,CAS號為14507-19-8,分子量為189.93。不溶于水,但能溶于強酸。易吸收空氣中的CO2,具有具有優異的光,電,磁性能,并且被人們作為催化劑,吸附劑,熒光劑等得到廣泛的應用。
氫氧化鑭具有高折射率和高透過率的特點，能夠滿足光學薄膜對光線傳播和折射的要求，可用于制造具有特定光學性能的薄膜，以調節光線的反射、折射和透射，滿足光學儀器以及光通信等相關行業需要。
氫氧化鑭薄膜具有潛在的單層抗反射功能，其納米棒薄膜可使可見光波段反射光損失顯著減少。將直徑為 20nm 的二氧化硅沉積在高粗糙度的氫氧化鑭薄膜上，可獲得兼具超親水性和防霧特性的復合薄膜，且抗反射特性沒有損失，這種薄膜在光學器件表面防護等方面具有廣泛應用前景。
氫氧化鑭可以與其他材料復合，形成性能更優的光學薄膜。例如，它可以與二氧化硅等材料結合，通過合理的制備工藝，調控薄膜的微觀結構和光學性能，以適應不同的應用需求。此外，氫氧化鑭還可作為制備氧化鑭薄膜的前驅體材料。通過化學氣相沉積等技術，可將氫氧化鑭轉化為氧化鑭薄膜，用于半導體等領域的光學器件制造。
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